一、915MHz高功率MPCVD装置介绍

国内首台915MHz，75kW高功率微波等离子体（MPCVD）

金刚石膜沉积装置

直径3-5英寸（φ76-127mm）大面积高质量金刚石膜

河北普莱斯曼金刚石科技有限公司与北京科技大学于2014年联合研制了一台75kW， 915MHz高功率微波等离子体金刚石膜沉积装置。经过两年多的设备改进与工艺探索，目前我单位采用该设备可成功制备直径达5英寸（φ127mm），厚度0.1-2mm的大面积高质量金刚石膜。通过控制生长条件，可为客户提供不同规格和特性的优质金刚石膜产品。

二、单晶简介

本公司采用化学气相沉积方法外延生长，获得了厚度2mm以上的高纯度金刚石单晶。经检验，样品颜色和净度均可达到宝石级水平，通过工艺参数的优化，单晶生长速率可达30um/h，抛光后样品厚度公差可达±0.05mm，晶向偏差±2°，表面粗糙度Ra<30nm。